スクロールで次の画像
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光露光技術とナノインプリント技術の製造工程比較
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装置用のマスク
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15nmパターン形成時における、既存の光露光技術(ArF液浸、EUV)とNILの消費電力比較
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初出荷した、NIL技術を使用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」光露